光刻設(shè)備≠光刻機(jī)
一、1931年：魯斯卡使用冷陰極放電電子源和三個(gè)電子透鏡改裝高壓示波器，首次實(shí)現(xiàn)電子顯微成像。1932年：魯斯卡進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)計(jì)，將分辨率提升至50納米，標(biāo)志著電子顯微鏡進(jìn)入實(shí)用階段。
二、世界上第一臺(tái)五坐標(biāo)聯(lián)動(dòng)數(shù)控機(jī)床誕生于1959年，由美國(guó)辛辛那提公司（cincinnatimilacron）生產(chǎn)。
三、1881年：德國(guó)科學(xué)家馬克斯·舒勒（maxschuler）發(fā)明了第一臺(tái)光刻機(jī)，用于印刷術(shù)。1952年：美國(guó)科學(xué)家理查德·霍夫（richardhove）和弗雷德里克·特勒（frederickteller）發(fā)明了第一臺(tái)電子束光刻機(jī)，用于半導(dǎo)體制造。1958年：美國(guó)德克薩斯儀器公司（texasinstruments）試制成功世界上第一塊平面集成電路，標(biāo)志著光刻技術(shù)開(kāi)始應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域。1959年：荷蘭飛利浦公司研發(fā)出第一臺(tái)商用光刻機(jī)，應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。
1955年，貝爾實(shí)驗(yàn)室的julesandrus和walterl.bond開(kāi)始采用光刻技術(shù)在印刷電路板上制作圖案，使用二氧化硅層在硅片上產(chǎn)生更精細(xì)、更復(fù)雜的設(shè)計(jì)。1957年，美國(guó)陸軍diandordnancefuse實(shí)驗(yàn)室的jaylathrop和jamesnall獲得了光刻技術(shù)的專(zhuān)利，該技術(shù)用于沉積約200微米寬的薄膜金屬條。1958年，fairchild的jaylast和robertnoyce制造了首批“步進(jìn)重復(fù)”相機(jī)之一，利用光刻技術(shù)在單個(gè)晶圓上制造了許多相同的硅晶體管。1959年，gca收購(gòu)了davidw.mann，成為光刻技術(shù)的先驅(qū)之一。